Семейство вакуумных установок ВУ-400 предназначено для получения тонкопленочных покрытий с использованием метода распыление материала мишени ионным лучом с одновременным ассистированием процесса осаждения пленки низко энергетическим потоком ионов. Установки предназначены для использования в составе комплекса лабораторного оборудования, а также для использования в производстве мелких серий изделий микро и оптоэлектроники.

Вакуумные установки могут работать в ручном, полуавтоматическом и автоматическом режимах. На установках применена безмасленная сверхвысоковакуумная система откачки, на базе криогенного насоса НВК-3.2 и агрегата вакуумного роторного АВР-60.

Установки оснащены кварцевой системой контроля толщины покрытия.

Установка укомплектована двумя ионными источниками:

• ионный источник очистки подложек обеспечивает полную бомбардировку поверхности подложек под средним углом 60’. Средняя энергия ионов регулируется в пределах 400-600 ЭВ.
• ионный источник осаждения покрытий – служит для создания потока ионов бомбардирующих мишень и распыляющих ее материал с целью осаждения его на поверхность подложки. Средний угол бомбардировки 30’ по отношению к поверхности мишени. Средняя энергия ионов 500… 3500эВ.