Установка вакуумная ВУ-2МИ предназначена для нанесения покрытий на оптические детали методом резистивного и электронно-лучевого испарения диэлектриков, полупроводниковых материалов и металлов с одновременным контролем толщины покрытия.

В состав установки входит вакуумная установка ВУ-2М и ионный низкоэнергетический источник “Аида” устанавливается на нижней плите камеры установки ВУ-2М взамен ионизатора и служит для низкоэнергетического ассистирования и ионно-лучевой очистки детали.