Предназначена для нанесения в вакууме покрытий на оптические детали с повышенными требованиями к оптическим характеристикам и прочностным свойствам методом электронно-лучевого и резистивного испарения в вакууме, а также для прецизионного формообразования поверхностей оптических деталей. Изделие оснащено АСУТП на базе IBM PC совместимого вычислительного комплекса

Предназначена для нанесения тонкоплёночных многослойных функциональных покрытий на стеклянные подложки, например спектрально-зависимые отражающие покрытия на автомобильные зеркала заднего вида. Нанесение производится ионно-плазменным магнетронным методом с использованием технологии реактивного магнетронного напыления. В конструкции установки предусмотрена возможность нанесения покрытий на плоские подложки из других материалов.

Предназначена для нанесения токопроводящих, антибликовых, защитных покрытий на 17-ти дюймовые мониторы и кинескопы.

На данной установке можно наносить многослойные просветляющие покрытия с одновременным оптическим контролем в реальном масштабе времени во всём диапазоне 380-780 нм (диапазон может быть изменён) и защитные токопроводящие с одновременным контролем сопротивления. В связи с тем, что покрытия наносятся послойно, два блока питания магнетронов периодически коммутируются к соответствующим магнетронам. Контроль над парциональным давлением реактивного газа ведётся с помощью прибора спектрального управления. Давление аргона поддерживается автоматически. Возможен предварительный отжиг магнетронов. Оптический контроль полностью компьютеризирован. Программное обеспечение компьютера оптического контроля совместимо с IBM-РС и через интерфейс RS232/485 может быть подключено к любому другому управляющему процессору. Точность измерения коэффициента отражение в заданном диапазоне спектра около 0,001%! Два магнетрона предназначены для нанесения ТiO2, два для нанесения SiO2, остальные два для нанесения защитных покрытий (типа ITO, Ag и т.д.). Наличие шести магнетронов позволяет наносить шесть различных покрытий. Установленный высокоэнергетичный ионный источник позволяет значительно улучшить адгезию покрытий к подложке. На вакуумной установке ВУ-1600М можно наносить покрытия полностью соответствующие техническим требованиям полученным от «Philips».