Установка предназначена для нанесения оптических функциональных тонкопленочных покрытий методами термического испарения с использованием электронно-лучевых и резистивных испарителей в условиях крупносерийного производства. Конструкцией изделия предусмотрена возможность ионно-лучевого ассистирования процесса осаждения пленки. Контроль за процессом откачки и технологическими параметрами цикла осуществляет автоматизированная система управления технологическим процессом.

Изделие оснащено системой фотометрического контроля оптической толщины пленки в диапазоне длин волн 250-1100 нм и системой измерения физической толщины и скорости осаждения покрытия по изменению параметров кварцевого резонатора.